특별 에세이
이온 빔 필름 형성 장치의 개발
바카라 사이트 쿠폰 Review 58 [1, 2] 53-58 (2001.12)
요약
우리는 Si 박막 증착 공정 모듈과 에칭 프로세스 모듈을 개발하기 위해 Nordiko의 Ion Beam 기술을 도입했습니다. 각 모듈은 DLC (다이아몬드 유사 탄소)의 증착을위한 Shimadzu의 다이아몬드 유사 탄소 (ECR-CVD) 모듈과 결합되었다. 이 장치는 차세대 GMR (Giant Magnetoresisistance) 헤드를위한 보호 필름 형성 공정의 개발에 적용될 계획입니다.
1기술 부서의 산업 기계 부서
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