특별 에세이
표면파 플라즈마 CVD 장비 개발
바카라 추천 Review 62 [1, 2] 15-26 (2005.9)
요약
우리는 독특하게 설계된 대 지역 표면파 플라즈마 (SWP) 소스의 설계를 설명하고 SWP를 사용한 저온 CVD 프로세스의 플라즈마 평가 및 개발에 대한보고를합니다.
혈장 평가는 SWP가 고밀도 및 저온 혈장이며 특성 데이터가 표시됨을 보여줍니다.
SWP를 사용하여 CVD를 사용하여 100 ° C 이하의 실리콘 질화물 필름 과정 및 필름 품질의 특성을 설명합니다.
1기술 부서의 바카라 추천 장비 부서
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